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몰리브덴 원형

속성:
제조 방식:
원형 몰리브덴 웨이퍼를 제조하는 주요 방법은 세 가지이다.

(1) 몰리브덴 막대의 와이어 컷팅. 몰리브덴 막대를 와이어 컷팅 방식으로 가공하는 방법은 기하학적 손실이 적고 수율이 높으나, 와이어 컷팅 효율이 낮다. 또한, 원형 가공 후 원형 표면의 가장자리와 중심부의 결정립 크기가 불균일해지기 쉬우며, 현재는 여전히 실험 연구 단계에 있다.

(2) 몰리브덴 분말의 직접 압축 및 소결. 몰리브덴 분말 압축 및 소결 방식은 (1)보다 수율이 높으나, 밀도가 낮고 강도가 떨어지며, 결정립 구조가 무질서하게 배열되어 사용자가 실리콘 웨이퍼와 적층하여 사용할 때 균열 또는 파단이 발생하기 쉬워 여전히 개선이 필요하다.

(3) 몰리브덴 판재 펀칭.

개요
추천 제품

매개변수：

공정	압연, 진공 어닐링
표면 처리	광택 마감면, 냉간 압연 면, 알칼리 세척 면
특성	고온 및 부식 저항성
특성	고온 및 부식 저항성
몰리브덴 함량	99.95%
사양	사용자 정의

제품 특징

몰리브덴 디스크는 고순도 몰리브덴 블랭크를 단조, 압연, 정밀 절단 및 표면 마감 공정을 통해 제작된 원형 내화 금속 부품이다. 이 제품은 진공 열처리, 반도체 코팅, 전자 제조, 희토류 용해 및 고온 소결 산업 분야에서 핵심 소모품으로 사용되며, 탁월한 물리적·화학적 특성을 두루 갖추고 있다.

우선, 뛰어난 고온 저항성을 지닌다. 몰리브덴의 융점은 2620°C에 달하므로, 이 디스크는 장기간 초고온 환경에서도 안정적인 기계적 강도와 완전한 평탄도를 유지한다. 고온 크리프에 대한 저항력이 매우 뛰어나 반복적인 가열 및 냉각 사이클에서도 휘거나 처지거나 균열이 생기지 않는다. 또한 열팽창 계수가 극히 낮아 급격한 온도 변화 속에서도 전체 치수 변화가 거의 없어 정밀 장비의 안정적인 가공 정확도를 보장한다.

열적 및 전기적 성능 측면에서 몰리브덴 디스크는 균형 잡히고 균일한 열 전도성을 제공하여 진공 용광로 내 열 부담 플레이트로 사용 시 균일한 열 분포를 가능하게 합니다. 안정적인 전기 전도성 덕분에 전극 기재 및 전도성 캐리어 디스크로 최적의 성능을 발휘합니다. 또한, 진공 환경에서 거의 무시할 수 있을 정도의 증기 압력을 발생시키며, 용광로 내부나 반도체 웨이퍼를 오염시킬 수 있는 휘발성 불순물을 방출하지 않아 박막 스퍼터링 공정의 엄격한 청결성 기준을 완전히 충족합니다.

화학적으로 이 디스크는 상온 및 중간 온도에서 대부분의 희석된 산, 염기 및 용융 비철금속에 대해 신뢰할 수 있는 내부식성을 보인다. 진공 또는 불활성 가스 환경에서는 거의 산화가 일어나지 않으며, 개방된 공기 중에서 온도가 400°C 이상으로 상승할 경우에만 경미한 표면 산화가 발생한다. 또한 용융 유리, 세라믹 및 희토류 용융물에 대해 관성 상태를 유지하여 소결 및 용해 생산 과정에서 교차 오염을 방지한다.

응용 분야
몰리브덴 웨이퍼의 화학 조성이 안정적이며, 몰리브덴 함량은 99.9%에 달하고, 치수 정확도가 높으며, 표면 거칠기가 낮아 Ra 1.6μm 이하로 제어 가능하다. 또한 고융점, 우수한 전기 및 열 전도성, 높은 강도, 실리콘과 유사한 선형 열팽창 계수, 우수한 가공성을 갖추고 있어 실리콘 정류 장치 일체형 설비, 반도체 실리콘 소자, 진공관 양극, 계측기 제조 등에 필수적인 기판 재료이다.