Atributo:
A pulverização catódica (sputtering) é um novo tipo de método de deposição física de vapor (PVD). A pulverização catódica é amplamente utilizada em: displays de painel plano, indústria de vidro (incluindo vidro arquitetônico, vidro automotivo e vidro com filmes ópticos), células solares, engenharia de superfícies, mídias graváveis, microeletrônica, faróis automotivos e revestimentos decorativos, entre outros.
Parâmetro:
Os alvos de pulverização catódica de molibdênio que podemos fornecer são os seguintes:
Alvo em placa: Peso: ≤200 kg/unidade, Pureza: ≥99,95%
Alvo Tubular: Comprimento: ≤Φ165 mm × 1000 mm, Pureza: ≥99,95%
Aplicações:
A pulverização catódica (sputtering) é um novo tipo de método de deposição física de vapor (PVD). A pulverização catódica é amplamente utilizada em: displays de painel plano, indústria de vidro (incluindo vidro arquitetônico, vidro automotivo e vidro com filmes ópticos), células solares, engenharia de superfícies, mídias graváveis, microeletrônica, faróis automotivos e revestimentos decorativos, entre outros.
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