Attributo:
La sputtering è un nuovo tipo di metodo di deposizione fisica da fase vapore (PVD). La sputtering è ampiamente utilizzata nei settori dei display a pannello piatto, dell’industria del vetro (inclusi vetro architettonico, vetro automobilistico e vetro per film ottici), delle celle solari, dell’ingegneria delle superfici, dei supporti di registrazione, della microelettronica, delle luci automobilistiche e dei rivestimenti decorativi.
Parametro:
I target per sputtering al molibdeno che possiamo fornire sono i seguenti:
Target a piastra: Peso: ≤ 200 kg/pezzo, Purezza: ≥ 99,95%
Target tubolari: Lunghezza: ≤ Φ165 mm × 1000 mm, Purezza: ≥ 99,95%
Applicazioni:
La sputtering è un nuovo tipo di metodo di deposizione fisica da fase vapore (PVD). La sputtering è ampiamente utilizzata nei settori dei display a pannello piatto, dell’industria del vetro (inclusi vetro architettonico, vetro automobilistico e vetro per film ottici), delle celle solari, dell’ingegneria delle superfici, dei supporti di registrazione, della microelettronica, delle luci automobilistiche e dei rivestimenti decorativi.
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