Atributo:
La pulverización catódica (sputtering) es un nuevo tipo de método de deposición física de vapor (PVD). La pulverización catódica se utiliza ampliamente en: pantallas planas, industria del vidrio (incluido el vidrio arquitectónico, el vidrio automotriz y el vidrio con películas ópticas), células solares, ingeniería de superficies, soportes de grabación, microelectrónica, iluminación automotriz y recubrimientos decorativos, etc.
Parámetro:
Los objetivos de pulverización catódica de molibdeno que podemos suministrar son los siguientes:
Objetivo en placa: Peso: ≤ 200 kg/unidad, Pureza: ≥ 99,95 %
Objetivo tubular: Longitud: ≤ Φ165 mm × 1000 mm, Pureza: ≥ 99,95 %
Aplicaciones:
La pulverización catódica (sputtering) es un nuevo tipo de método de deposición física de vapor (PVD). La pulverización catódica se utiliza ampliamente en: pantallas planas, industria del vidrio (incluido el vidrio arquitectónico, el vidrio automotriz y el vidrio con películas ópticas), células solares, ingeniería de superficies, soportes de grabación, microelectrónica, iluminación automotriz y recubrimientos decorativos, etc.
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