Χαρακτηριστικά:
Το σπάτερινγκ είναι μια νέα μορφή μεθόδου Φυσικής Εναπόθεσης Ατμών (PVD). Το σπάτερινγκ χρησιμοποιείται ευρέως στις ακόλουθες εφαρμογές: επίπεδες οθόνες, βιομηχανία γυαλιού (συμπεριλαμβανομένου του γυαλιού για κτίρια, αυτοκινητικού γυαλιού και οπτικών φιλμ γυαλιού), ηλιακά κύτταρα, μηχανική επιφανειών, μέσα καταγραφής, μικροηλεκτρονικά, αυτοκινητικά φώτα και διακοσμητικά επιστρώματα.
Παράμετρος:
Οι στόχοι απόθεσης με εκτόξευση (sputtering) από μολυβδαίνιο που μπορούμε να προσφέρουμε είναι οι ακόλουθοι:
Στόχος Πλάκας: Βάρος: ≤200 kg/τεμ., Καθαρότητα: ≥99,95%
Στόχος Σωλήνα: Μήκος: ≤Φ165 mm × 1000 mm, Καθαρότητα: ≥99,95%
Εφαρμογές:
Το σπάτερινγκ είναι μια νέα μορφή μεθόδου Φυσικής Εναπόθεσης Ατμών (PVD). Το σπάτερινγκ χρησιμοποιείται ευρέως στις ακόλουθες εφαρμογές: επίπεδες οθόνες, βιομηχανία γυαλιού (συμπεριλαμβανομένου του γυαλιού για κτίρια, αυτοκινητικού γυαλιού και οπτικών φιλμ γυαλιού), ηλιακά κύτταρα, μηχανική επιφανειών, μέσα καταγραφής, μικροηλεκτρονικά, αυτοκινητικά φώτα και διακοσμητικά επιστρώματα.
EN
