Atribut:
Sputtering adalah jenis baru metode Deposisi Uap Fisik (PVD). Sputtering banyak digunakan dalam: layar datar, industri kaca (termasuk kaca arsitektur, kaca otomotif, dan kaca film optik), sel surya, rekayasa permukaan, media perekaman, mikroelektronika, lampu otomotif, serta pelapisan dekoratif.
Parameter：
Target sputtering molibdenum yang dapat kami sediakan adalah sebagai berikut:
Target Pelat: Berat: ≤200 kg/pcs, Kemurnian: ≥99,95%
Target Tabung: Panjang: ≤Φ165 mm × 1000 mm, Kemurnian: ≥99,95%
Aplikasi:
Sputtering adalah jenis baru metode Deposisi Uap Fisik (PVD). Sputtering banyak digunakan dalam: layar datar, industri kaca (termasuk kaca arsitektur, kaca otomotif, dan kaca film optik), sel surya, rekayasa permukaan, media perekaman, mikroelektronika, lampu otomotif, serta pelapisan dekoratif.
EN
